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捷克MIRAI冷水機MIRAI X技術(shù)交流

更新時間:2026-03-26   點擊次數(shù):76次

捷克MIRAI冷水機MIRAI X技術(shù)交流

 

一、品牌與產(chǎn)品概述

捷克 MIRAI INTEX s.r.o. 是一家專注于空氣循環(huán)制冷技術(shù)的工業(yè)設(shè)備制造商。公司開發(fā)的 MIRAI X 系列冷水機采用空氣或氮氣作為制冷介質(zhì),通過閉式循環(huán)實現(xiàn)傳熱流體的升溫與降溫。該系列設(shè)備覆蓋從 +90℃ 至 -160℃ 的寬溫區(qū)范圍,控溫精度可達到 0.02℃ 至 0.5℃(視負載情況而定)。設(shè)備整體采用模塊化設(shè)計,現(xiàn)場連接電源、冷卻水及工藝管路后即可投入運行,適用于對溫度控制要求較高的工業(yè)場合。

 

二、產(chǎn)品類型

MIRAI INTEX 主要產(chǎn)品類型包括:

MIRAI X CRYO 標(biāo)準型空氣循環(huán)冷水機

MIRAI XM CRYO 緊湊型空氣循環(huán)冷水機

MIRAI XS CRYO 雙回路快速切換型冷水機

MIRAI COLD 深冷制冷系統(tǒng)

MIRAI SEMI 半導(dǎo)體工藝溫控設(shè)備

MIRAI X CRYO PRO 高功率型冷水機

定制化超低溫機組

空氣循環(huán)冷凍干燥配套設(shè)備

工業(yè)用風(fēng)冷式冷水機組

實驗室用小型溫控系統(tǒng)

 

三、主要型號與技術(shù)參數(shù)

MIRAI X 系列主要型號及對應(yīng)參數(shù)如下:

型號

電機功率

加熱能力

外形尺寸(寬×深×高)

制冷劑

冷卻方式

MIRAI X CRYO 20 PRO

20 kW

12 kW

130×94×180 cm

天然空氣

水冷

MIRAI X CRYO 40

40 kW

18 kW

80×177×197 cm

天然空氣

水冷

MIRAI XM CRYO 20

20 kW

18 kW

60×160×178 cm

天然空氣

水冷

MIRAI XS CRYO 20

20 kW

9 kW

60×160×178 cm

天然空氣

水冷

MIRAI XM CRYO 10

10 kW

8 kW

根據(jù)配置定制

天然空氣

水冷

 

以上型號的溫度范圍均為 +90℃ 至 -160℃,控溫精度在負載變化條件下為 ±0.5℃,部分工況可達 0.02℃。設(shè)備重量在 1000 kg 2000 kg 之間,噪音水平為 68 dB

 

四、核心特點

1. 寬溫區(qū)與控溫精度

設(shè)備可在 +90℃ 至 -160℃ 范圍內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié),同時滿足加熱與冷卻兩種工況。在工藝負載發(fā)生變化時,仍能保持 ±0.5℃ 以內(nèi)的溫度穩(wěn)定性。

2. 天然制冷劑

采用空氣作為制冷介質(zhì),變暖潛能值為零。運行過程中無需進行制冷劑泄漏檢測,也不涉及制冷劑補充,降低了設(shè)備全生命周期內(nèi)的維護工作量。

3. 快速自動恢復(fù)

當(dāng)外部供電出現(xiàn)短暫中斷或電壓波動時,設(shè)備可在 30 秒內(nèi)完成自動重啟并恢復(fù)到設(shè)定運行參數(shù),無需操作人員現(xiàn)場干預(yù)。

4. 泄漏檢測保護

機組內(nèi)置多處傳熱流體泄漏傳感器,可實時監(jiān)控制冷回路關(guān)鍵位置。一旦檢測到泄漏,系統(tǒng)會根據(jù)嚴重程度發(fā)出報警信號或執(zhí)行緊急停機。

5. 部分負載運行

通過調(diào)節(jié)壓縮機轉(zhuǎn)速和制冷劑流量,設(shè)備在部分負載條件下仍能保持運行效率,減少不必要的啟停和能耗。

 

五、應(yīng)用領(lǐng)域

1. 半導(dǎo)體制造

用于干法蝕刻、物理氣相沉積等工藝環(huán)節(jié)的溫度控制,在 -70℃ 至 -120℃ 區(qū)間提供穩(wěn)定的工藝溫度,有助于控制反應(yīng)速率和蝕刻精度。

2. 生物醫(yī)藥與低溫儲存

用于血漿冷凍、疫苗保存、生物樣本長期儲存以及凍干工藝中的溫控環(huán)節(jié)。設(shè)備可提供 -90℃ 及更低的儲存溫度。

3. 金屬材料處理

用于鋼制零件的深冷處理,在 -70℃ 至 -120℃ 范圍內(nèi)進行處理,有助于改善材料的組織結(jié)構(gòu)和耐磨性能。

4. 真空鍍膜

在物理氣相沉積和化學(xué)氣相沉積工藝中,為鍍膜腔體或工件提供所需的工藝溫度,溫度范圍覆蓋 -140℃ 至 +50℃。

5. 環(huán)境與材料測試

用于電子產(chǎn)品、材料和組件的溫度循環(huán)測試、高低溫耐受性試驗,模擬產(chǎn)品在實際使用中可能遇到的溫度條件。

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